اینتل تلاش میکند در سالهای پیش رو لیتوگرافیهای جدیدی نظیر ۲۰A (معادل ۲ نانومتر) و ۱۸A (معادل ۱٫۸ نانومتر) را وارد خط تولید پردازنده کند.
این شرکت در سال ۲۰۲۱ با پردازندههای سری آلدر لیک سراغ لیتوگرافی ۱۰ نانومتری Intel ۷ رفت و سپس بار دیگر در پردازندههای رپتور لیک، سفایر رپیدز، Xe-HP و Xe-HPC از این لیتوگرافی استفاده کرد.
بر اساس گزارش Wccftech، اینتل قصد دارد در نیمه نخست سال آینده میلادی شماری از لیتوگرافیهای جدیدش را وارد تولید انبوه کند.
اینتل همچنان فرایند تحقیقوتوسعه لیتوگرافی Intel ۴ (کلاس هفت نانومتری) را ادامه میدهد و احتمالاً اولین بار در پردازنده های میتیور لیک و گرانیت رپیدز از این لیتوگرافی استفاده میکند.
گفته میشود بهلطف استفاده از فناوری EUV، عملکرد به ازای وات (PPW) لیتوگرافی Intel ۴ بهمیزان ۲۰ درصد بهتر از Intel ۷ خواهد بود. در ادامه اینتل به شیوه گستردهتری از فناوری EUV در لیتوگرافی Intel ۳ استفاده میکند و افزایش عملکرد به ازای وات را به ۱۸ درصد میرساند.
اینتل سپس از طریق اسکنرهای پیشرفته EUV ساختهشده توسط شرکت ASML، لیتوگرافیهای Intel ۲۰A و Intel ۱۸A را روی کار میآورد تا پردازندههایی با ترانزیستورهای ۲ نانومتری و ۱٫۸ نانومتری تولید شوند.
شرکت ASML پیشبینی کرده است که تولید پردازندههای یک نانومتری تا سال ۲۰۲۸ امکانپذیر شود. تا قبل از روی کار آمدن این لیتوگرافی، اینتل احتمالاً پردازندههایی برپایه لیتوگرافی ۱۴A (معادل ۱٫۴ نانومتر) تولید خواهد کرد.
استفاده از دستگاههای EUV هزینهی تولید پردازنده را بالا میبرد و احتمالاً اینتل در نهایت هزینه اضافی را به مشتریان تحمیل میکند. در حال حاضر هر اسکنر EUV با قیمت نزدیک به ۱۵۰ میلیون دلار فروخته میشود. احتمالاً قیمت مدلهای پیشرفتهتر به ۴۰۰ میلیون دلار نیز خواهد رسید.